突破！国产光刻胶又一重磅利好 配方全自主设计

光刻胶产业化再度传出利好。

据东湖国家自主创新示范区官网今日（10月15日）消息，近日武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计。

该产品“对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异”。

有业内人士称，太紫微光称其产品已通过半导体工艺量产验证，并实现配方全自主设计，但最终成效还是要看市场与客户的反馈。据介绍，光刻胶产品在客户端验证周期通常需要2年。

太紫微公司团队来源

据悉，太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。该团队立足于关键光刻胶底层技术研发，在电子化学品领域深耕二十余载。武汉光电国家研究中心是科技部于2017年批准建设的第一批，也是唯一的一批6个国家研究中心之一，其前身为2003年获批的武汉光电国家实验室（筹）。
值得注意的是，天眼查信息显示，太紫微公司成立于2024年5月31日，注册资本200万元，实控人为朱明强，最终受益股份77%。
除了朱明强本人外，太紫微公司的另外两家股东，湖北高碳光电科技有限公司、武汉市马斯洛普管理咨询合伙企业，朱明强则分别持股100%和8%。
据公开信息显示，朱明强为华中科技大学武汉光电国家研究中心二级教授，光学与电子信息学院双聘教授。主要研究领域为有机及纳米光电子学，研究方向包括集中于光刻制造、有机纳米光电子学和超分辨率成像。

光刻胶产业链有哪些?

光刻胶产业链涵盖了从上游原材料生产到下游应用领域的多个环节。
上游环节主要依托基础化工原料，生产树脂、光引发剂、溶剂、单体等电子化学品，这些原材料的质量和性能对光刻胶的最终品质有着直接影响。树脂作为光刻胶的主要成膜物质，对光刻胶性能有重要影响，起到支撑作用，使其具有耐刻蚀性能；光引发剂是光刻胶中的光敏成分，能发生光化学反应；单体则参与光固化反应，降低体系黏度，调节材料性能；溶剂则赋予光刻胶流动性，便于涂布。
中游环节为光刻胶成品制造，包括PCB光刻胶、面板光刻胶和半导体光刻胶等，制造商需具备性能评价、严格生产管理、洁净生产、微量分析等关键技术，以确保产品质量和稳定性。
下游环节则涉及印刷电路板、显示面板和电子芯片等应用领域，这些产品广泛应用于消费电子、航空航天、军工等领域。
整体而言，光刻胶产业链技术壁垒、专利壁垒、资本壁垒较高，客户粘性大，上游原材料供应深度绑定。但近年来，随着相关产业向东转移，国内光刻胶需求快速增长，相关企业也在积极突破，努力实现国产替代。数据显示，其中KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重，国产化率均仅在1%水平。
西部证券指出，我国半导体光刻胶市场超90%主要依赖进口，本土厂商虽起步较晚，但目前处于国产化加速期。
据芯传感了解，光刻胶技术核心在于配方，它决定了光刻胶的性能和应用。同时，质量控制技术确保产品稳定可靠。高纯度、高稳定性的原材料是基础，光活性物质决定感光度与分辨率，感光树脂影响硬度、柔韧性和附着力，而溶剂则使光刻胶便于涂布加工。
这些要点共同构成了光刻胶技术的精髓，使其能够满足不同领域的高精度需求。