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突破！国产光刻胶又一重磅利好配方全自主设计

据东湖国家自主创新示范区官网今日（10月15日）消息，近日武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计。

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而建立自主可控的国产芯片产业链，不仅仅要实现设计、制造可控，更要实现关键设备和材料的自主可控。

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